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以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì)引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì)出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)，銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高。

銀是一種柔軟，有光澤的元素，屬于元素周期表中的金屬過(guò)渡族。它的熔點(diǎn)為961.78℃，密度為10.49g /cm3.銀的理化性質(zhì)均較為穩(wěn)定，導(dǎo)熱、導(dǎo)電性能很好，質(zhì)軟，富延展性。銀的理化性質(zhì)均較為穩(wěn)定，導(dǎo)熱、導(dǎo)電性能很好，質(zhì)軟，富延展性。其反光率*，可達(dá)99%以上。銀靶材離子濺射儀KT-Z1650PVD在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)。

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產(chǎn)品為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，

mini型磁控濺射儀KT-Z1650PVD，桌面式設(shè)計(jì)小巧卻功能齊全。觸摸屏控制功率，樣品臺(tái)0-8轉(zhuǎn)/分旋轉(zhuǎn)，自動(dòng)電動(dòng)樣品擋板等。

金屬磁控濺射儀， 外形小巧 ，功率電流大小可調(diào)，觸摸屏控制，有工藝儲(chǔ)存功能，外配水冷機(jī)可長(zhǎng)時(shí)間工作。